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    霧化cvd高速成膜 太陽(yáng)能電池轉(zhuǎn)換效率提高1成!

    “太陽(yáng)能電池的轉(zhuǎn)換效率最大提高了1成”——。東芝三菱電機(jī)產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)開發(fā)出了通過將原料制成霧狀來(lái)形成薄膜的霧化CVD(化學(xué)氣相沉積)裝置“TMmist”。由于采用非真空工藝、不使用等離子體,因此有望減少裝置的設(shè)置面積和初期投資,并提高基材薄膜的特性。東芝三菱電機(jī)產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)將瞄準(zhǔn)太陽(yáng)能
       憑借上述措施,TMmist可獲得與濺射裝置等同等的膜質(zhì)。以透明導(dǎo)電膜的特性為例,薄膜電阻值達(dá)到了9.5Ω/□,波長(zhǎng)400n~800nm的可見光的 平均透射率達(dá)到了90.5%注3)。可滿足太陽(yáng)能電池的透明導(dǎo)電膜要求的10Ω/□以下、80%以上的標(biāo)準(zhǔn)(圖2)。



      無(wú)損傷
      此次裝置比濺射裝置出色的是,不僅能夠減少采用非真空工藝時(shí)較大的設(shè)置面積及初期投資,而且還可憑借無(wú)等離子體損傷這一點(diǎn)來(lái)提高基材薄膜的特性。
    其中,無(wú)等離子體損傷的良好效果得到了太陽(yáng)能電池廠商的證實(shí)。有廠商報(bào)告稱,用于CIGS(Cu-In-Ga-Se)型太陽(yáng)能電池的透明導(dǎo)電膜時(shí),“轉(zhuǎn)換效率(最大)提高了1成”。在良好的結(jié)果鼓舞下,已開始有太陽(yáng)能廠商考慮導(dǎo)入試制機(jī)。
      另外,成膜速度也比濺射裝置高。濺射裝置約為200nm/分鐘,而TMmist達(dá)到了650nm/分鐘。其原因估計(jì)是霧狀液體能夠比氣體實(shí)現(xiàn)更多的原料供給量。


      作為TMmist最初的應(yīng)用領(lǐng)域,東芝三菱電機(jī)產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)選擇的是今后市場(chǎng)有望增長(zhǎng)的CIGS型太陽(yáng)能電池的透明導(dǎo)電膜。而且今后該公司還將開拓其他用途, 比如顯示器等使用的透明導(dǎo)電膜,以及使用有機(jī)原料的有機(jī)EL等(圖3)。其中,在有機(jī)EL方面,除了用于透明導(dǎo)電膜之外,還可用于發(fā)光層、電子傳輸層及正 孔傳輸層等。




    作者:河合 基伸 來(lái)源:日經(jīng)BP社 責(zé)任編輯:wutongyufg

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