2011年3月15日 – 作為林德實現更可持續的電子制造承諾的一部分，林德集團旗下的林德電子今天宣布，將在東京電子（TEL）的日本韮崎市研發中心制造廠安裝一套現場氟發生器，以支持東京電子的制造流程和業務運營。

　　林德集團是全球領先的氣體和工程企業，近來一直為LPCVD應用的大型半導體生產基地安裝現場制氟設備并接獲訂單。林德發現有越來越多的客戶由于擔心三氟化氮(NF3)很有可能造成全球變暖，加之可能有潛在立法限制NF3的使用而開始采用現場制氟。相較于NF3，現場制氟是一種更具生產力、更節能的替代選擇，它更便于清潔用于制造TFT-LCD和PV的PECVD2室。2010年，林德客戶通過使用現場制氟，減少逾25萬噸二氧化碳排放量。 林德Generation-F®現場氟發生器已通過大量的第三方安全評估。目前林德在世界各地提供和運行的Generation-F®系統數量超過30套，滿足了半導體、顯示和光伏行業的腔室清潔需求。 林德為世界各地的電子行業客戶提供各種高純度氣體選擇、相關產品、服務及技術解決方案，以便于研發直至大規模生產。

　　1. LPCVD = 低壓化學氣相沉積 2. PECVD = 等離子體增強化學氣相沉積