據報道,Meco工程設備公司(MecoEquipmentEngineers)已研發出可為晶硅太陽能電池進行金屬鍍膜的電池柵線電鍍設備(CellPlatingLine，簡稱CPL)。該設備可通過超薄銀漿精細種子層提高電池效率，以便于批量生產。

　　業內生產商目前大都通過絲印厚膜銀漿為晶硅太陽能電池進行正面電鍍。通常情況下，為了獲得足夠的導電能力，絲網印刷接觸指寬達120微米。為提高電池效率，則需增大電池的活性面積(包括半導體層和接觸層)，即減少底紋，這就要求要減少接觸指的寬度。但是若絲網印刷接觸指長寬比不當，將導致接觸指電阻增大，從而限制電池效率的提高。

　　Meco公司CPL工藝使用超薄銀漿精細種子層，可以通過電鍍銀或者鎳-銅-錫來進一步增強接觸指的導電能力。這既能形成精細的接觸指，又能有效減少電阻。該工藝不僅能將電池效率提高0.3-0.5%，還能大幅減少銀漿的使用量。新一代太陽能電池中已通過激光燒穿接觸工藝對氮化硅(SiN)薄膜進行處理，鑒于此CPL工藝十分適用于對晶硅進行直接電鍍處理。這就使得進一步提高電池效率的想法具有可行性。

　　產品應用：硅太陽能電池的金屬鍍膜；正面或反面電鍍；同時進行正反面電鍍過程(如雙面電池)

　　Meco公司CPL設備是一套完整的銀漿/鎳-銅-錫金屬鍍膜交鑰匙生產線。目前輸出功率有1500和3000塊/小時兩種，并可根據客戶有求進行調整。每套CPL設備都配有自動電池裝載系統(棧式及槽式均可)。由于電池在CPL生產線上進行傳送時始終保持豎直狀態，其所受化學阻力的損害顯著小于水平傳送狀態下所受損害。CPL設備優勢極為明顯，降低化學原料使用量的同時，大幅減少生產過程中產生的廢水量。