東芝三菱電機產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)開發(fā)的霧化CVD裝置（a）。利用超聲波使原料溶液霧化后，在基板上分解反應(yīng)，形成薄膜（b）。（圖片出外：東芝三菱電機產(chǎn)業(yè)系統(tǒng)）
　　具體操作過程如下。先由（1）超聲波噴霧器利用1.6M～2.4MHz超聲波將成膜原料溶液制成直徑數(shù)μm的霧狀液滴注1）。接著，將霧狀原料與載氣混合，輸送至（2）整流噴嘴，噴到基板上。然后，噴到基板上的原料（3）在加熱器產(chǎn)生的熱效應(yīng)下分解反應(yīng)，形成薄膜。
　　實現(xiàn)產(chǎn)品化時的最大課題是如何優(yōu)化對膜厚及膜質(zhì)不均問題有重大影響的（2）整流噴嘴內(nèi)部構(gòu)造。這時需要利用整流噴嘴使霧化的原料均質(zhì)化，噴到基板上。東芝三菱電機系統(tǒng)在母公司三菱電機的研究所的協(xié)助下，對霧化原料的流動與內(nèi)部構(gòu)造之間的關(guān)系進行了反復(fù)分析。另外，還對（1）超聲波噴霧器使用的原料溶液的成分等實施了優(yōu)化，同時改進了（3 ）加熱器的機構(gòu)，從而實現(xiàn)了大面積基板的均勻加熱注2）。
　　注1）泄漏至裝置外部的超聲波數(shù)量符合制造設(shè)備業(yè)界團體SEM（I SemiconductorEquipment and Materials International）的標準。
　　注2）在寬1m的基板上形成透明導電膜時，膜厚不均程度為±20％。通過在產(chǎn)生線上排列多個整流噴嘴、重復(fù)成膜，便可將成膜膜厚的不均程度降至±10％。
　　憑借上述措施，TMmist可獲得與濺射裝置等同等的膜質(zhì)。以透明導電膜的特性為例，薄膜電阻值達到了9.5Ω/□，波長400n～800nm的可見光的平均透射率達到了90.5％注3）。可滿足太陽能電池的透明導電膜要求的10Ω/□以下、80％以上的標準（圖2）。
　　注3）形成氧化鋅（ZnO）透明導電膜時，使用由鋅化合物等構(gòu)成的原料溶液。基板用加熱器加熱至200℃，并向基板上供給臭氧來促進反應(yīng)。基板上的溫度不均程度為±2％。

作者： 來源：日經(jīng)技術(shù)在線 責任編輯：gaoting